Investigation of the Structural, Electrical and Corrosion Properties of NbN Films Deposited by Magnetron Sputtering (DC Power Supply) Technique at Different Power
No Thumbnail Available
Date
2021
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Sumy State University
Article
Date of Defense
Scientific Director
Speciality
Date of Presentation
Abstract
В статті вивчено нанесення тонких плівок нітриду ніобію (NbN) на підкладки з нержавіючої сталі
(SS304) і кремнію (100) за допомогою методу магнетронного розпилення при постійному струмі та різних потужностях від 100 до 150 Вт. Структура плівки аналізується за допомогою рентгенівської дифракції (XRD); дифракційні картини показують, що плівки мають переважну орієнтацію (111), що відповідає фазі кубічної структури. Для дослідження складу підготовлених плівок використовуються метод пружного зворотного розсіювання Резерфорда (RBS) та енергодисперсійне рентгенівське випромінювання (EDX). Морфологія поверхні плівок досліджується за допомогою зображень, отриманих скануючою електронною мікроскопією (SEM) та атомно-силовою мікроскопією (AFM). Зображення AFM
уточнюють зміни морфології, особливо шорсткість залежно від потужності; отримано, що шорсткість
зменшується зі збільшенням товщини плівки, а також потужності. Показники корозії та мікротвердості плівок пов'язані та приписуються кристалічності зразків, яка змінюється залежно від потужності.
Корозійна стійкість плівок NbN на підкладках з SS304 підвищується. Ці привабливі результати можуть дозволити використання отриманих плівок в області медичних інструментів або обладнання
(еквівалент сольової сироватки). Електричні вимірювання (C-V та I-V) плівок, нанесених при потужності 100 Вт, підтверджують потенційне електричне застосування плівок NbN, нанесених методом розпилення при постійному струмі.
This study aims to deposit niobium nitride (NbN) thin films on stainless steel (SS304) and silicon (100) substrates using direct current (DC) magnetron sputtering method at different power (varied from 100 to 150 W). The film structure is analyzed by X-ray diffraction (XRD); the patterns show that the films possess a (111) preferred orientation, corresponding to the cubic structure phase. Rutherford elastic backscattering (RBS) and energy dispersive X-ray (EDX) are used to investigate the composition of the prepared films. Surface morphology of the films is explored by scanning electron microscopy (SEM) and atomic force microscopy (AFM) images. AFM images clarify modifications of the morphology, especially roughness versus increased power, where roughness decreased with increasing thickness as well as power. Corrosion and microhardness performances of the films are related and assigned to the crystallinity of samples, which varies with power. Corrosion resistance of NbN films associated with SS304 substrates is improved. These attractive results may allow to use our films in the field of medical tools or equipment (equivalent to saline serum media). Electrical measurements (C-V and I-V) of films deposited at a power of 100 W confirm the potential electrical applications of NbN films deposited by DC sputtering method.
This study aims to deposit niobium nitride (NbN) thin films on stainless steel (SS304) and silicon (100) substrates using direct current (DC) magnetron sputtering method at different power (varied from 100 to 150 W). The film structure is analyzed by X-ray diffraction (XRD); the patterns show that the films possess a (111) preferred orientation, corresponding to the cubic structure phase. Rutherford elastic backscattering (RBS) and energy dispersive X-ray (EDX) are used to investigate the composition of the prepared films. Surface morphology of the films is explored by scanning electron microscopy (SEM) and atomic force microscopy (AFM) images. AFM images clarify modifications of the morphology, especially roughness versus increased power, where roughness decreased with increasing thickness as well as power. Corrosion and microhardness performances of the films are related and assigned to the crystallinity of samples, which varies with power. Corrosion resistance of NbN films associated with SS304 substrates is improved. These attractive results may allow to use our films in the field of medical tools or equipment (equivalent to saline serum media). Electrical measurements (C-V and I-V) of films deposited at a power of 100 W confirm the potential electrical applications of NbN films deposited by DC sputtering method.
Keywords
плівка NbN, вплив потужності, структурний, корозія, електричні характеристики, NbN film, power effect, structural, corrosion, electrical characterization
Citation
B. Abdallah, M. Kakhia, W. Alssadat, W. Zetoune, J. Nano- Electron. Phys. 13 No 6, 06032 (2021). DOI: https://doi.org/10.21272/jnep.13(6).06032